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国际刊号:ISSN 1007-1865 / 国内刊号:CN 44-1238/TQ

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半导体工业超纯水的技术指标及其制备概述

第一作者:薛张辉 投稿时间:2018-10-21 17:45:11.0 打印本页


半导体工业需要大量的超纯水,随着半导体工业的发展,对超纯水水质的要求日趋严格。当前半导体工业的超纯水的水质指标要求,甚至严格于我国国标电子水的最高标准要求,如微粒子,TOC,电阻率,溶解氧等。因此,相比于其他行业的超纯水,需要更加严格的深度处理技术,如深度处理颗粒物,有机物,深度脱盐,深度脱气技术等等。